노볼락/DNQ 기반의 화학 증폭형 포토레지스트

본 발명은 중합체 성분, 광산 생성제 성분(PAG), 광활성 디아조나프토퀴논 성분(PAC), 염기 성분, 용매 성분, 및 임의적으로 헤테로환형 티올 성분을 포함하는 레지스트 조성물에 관한 것이다. 상기 중합체 성분은 유리 페놀성 하이드록시 모이어티를 가진 노볼락(Novolak) 반복 단위 및 산 절단 가능한 아세탈 모이어티에 의해 보호된 페놀성 하이드록시 모이어티를 포함하는 노볼락 반복 단위를 포함하는 노볼락 유도체이다. 아세탈 모이어티는 노볼락 페놀성 하이드록시 모이어티를 포함하는 반복 단위를 보호하는 일작용성 알킬 아세탈 모이어티; 노볼락 페놀성 하이드록시 모이어티를 포함하는 반복 단위를 보호하는, PAC 모이어티에 의해 작용화된 모이어티를 포함하는 아세탈; 노볼락 페놀성 하이드록시 모이어티를 포함하는 2개의 반복 단위를 연결하고 보호하여, 상기 중합체 성분의 2개의 상이한 중합체 쇄들 사이에서의 상기 중합체 성분 중의 연결점을 형성하는 이작용성 아세탈 포함 모이어티; 및 이들 세 유형의 산 절단 가능한 아세탈 모이어티들 중 임의의 산 절단 가능한 아세탈 모이어티들의 혼합물로부터 선택된다. PAC 성분은 노볼락 페놀성 하이드록시 모이어티를 포함하는 반복 단위를 보호하는, PAC 모이어티에 의해 작용화된 모이어티를 포함하는 상기 아세탈, 유리 PAC 성분, 및 이들 두 유형의 PAC 성분들의 혼합물로부터 선택된다. 또한, 본 발명은 두꺼운 또는 얇은 필름 포토레지스트 디바이스 제작 방법에서 본 조성물을 사용하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to resist compositions comprising a polymer component, a photoacid generator component (PAG), a photoactive diazonaphthoquinone component (PAC), a base component, a solvent component, and optionally, a heterocyclic thiol component. The polymer component is a Novolak derivative, comprising Novolak repeat units with free phenolic hydroxy moieties, and Novolak repeat units comprising phenolic hydroxy moieties protected with an acid cleavable acetal moiety. The acetal moiety is elected from a mono functional alkyl acetal moiety protecting a repeat unit comprising a Novolak phenolic hydroxy moiety, an acetal, comprising a moiety functionalized with a PAC moiety, protecting a repeat unit comprising a Novolak phenolic hydroxy moiety; a di-functional acetal comprising moiety, linking and protecting two repeat units comprising Novolak phenolic hydroxy moieties, forming a linking point in said polymer component between two different polymer chains in said polymer component, and a mixture of any of these three types of acid cleavable acetal moieties. The PAC component is selected from said acetal, comprising a moiety functionalized with a PAC moiety, protecting a repeat unit comprising a Novolak phenolic hydroxy moiety, a free PAC component, and a mixture of these two types of PAC components. The present invention also relates to the methods of using the present compositions in either in thick or thin film photoresist device manufacturing methodologies.