FLUID HANDLING STRUCTURE FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS

침지 유체를 리소그래피 장치의 일부 영역에 국한시키도록 구성된 유체 처리 구조물(12)은, 침지 액체를 통해 투영 비임이 통과하도록 형성된 구멍(15); 제 1 부분(100); 및 제 2 부분(200)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 적어도 하나는 영역으로부터 침지 유체를 빼내기 위한 표면(20)을 형성하고, 유체 처리 구조물은 유체 처리 구조물의 표면에 출입하는 유체 유동을 제공하고, 제 2 부분에 대한 제 1 부분의 운동은 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치를 변화시키는데 효과적이고, 제 1 부분과 제 2...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	TEUNISSEN MARCEL MARIA CORNELIUS FRANCISCUS, VAN VLIET EVERT, KEUKENS FLOOR LODEWIJK, TEN KATE NICOLAAS, ROPS CORNELIUS MARIA, CUYPERS KOEN, TANASA GHEORGHE, VAN DEN EIJNDEN PEPIJN, VAN ERVE JANTIEN LAURA, FRENCKEN MARK JOHANNES HERMANUS, GATTOBIGIO GIOVANNI LUCA, POLET THEODORUS WILHELMUS, BUDDENBERG HAROLD SEBASTIAAN, CORTIE ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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