FLUID HANDLING STRUCTURE FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS

침지 유체를 리소그래피 장치의 일부 영역에 국한시키도록 구성된 유체 처리 구조물(12)은, 침지 액체를 통해 투영 비임이 통과하도록 형성된 구멍(15); 제 1 부분(100); 및 제 2 부분(200)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 적어도 하나는 영역으로부터 침지 유체를 빼내기 위한 표면(20)을 형성하고, 유체 처리 구조물은 유체 처리 구조물의 표면에 출입하는 유체 유동을 제공하고, 제 2 부분에 대한 제 1 부분의 운동은 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치를 변화시키는데 효과적이고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 하나는 유체 유동이 통과하는 적어도 하나의 관통공(51, 61)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 다른 하나는 유체 유동이 통과하는 적어도 하나의 개구(55, 65)를 포함하며, 적어도 하나의 관통공 및 적어도 하나의 개구는 서로 정렬되면 유체 연통하고, 운동에 의해 적어도 하나의 개구가 적어도 하나의 관통공 중의 하나와 정렬되어, 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치가 변하게 된다. A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the structure having: an aperture for the passage therethrough of a beam; a first part; and a second part, wherein the first and/or second part define a surface for the extraction of immersion fluid, relative movement between the first and second parts is effective to change a position of fluid flow into or out of the surface relative to the aperture, and the first or second part has at least one through-hole for the fluid flow and the other of the first or second part has at least one opening for the fluid flow, the at least one through-hole and at least one opening being in fluid communication when aligned, the relative movement allowing alignment of the at least one opening with different ones of the through-hole to change the position of the fluid flow into or out of the surface.