FLUID HANDLING STRUCTURE FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS
침지 유체를 리소그래피 장치의 일부 영역에 국한시키도록 구성된 유체 처리 구조물(12)은, 침지 액체를 통해 투영 비임이 통과하도록 형성된 구멍(15); 제 1 부분(100); 및 제 2 부분(200)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 적어도 하나는 영역으로부터 침지 유체를 빼내기 위한 표면(20)을 형성하고, 유체 처리 구조물은 유체 처리 구조물의 표면에 출입하는 유체 유동을 제공하고, 제 2 부분에 대한 제 1 부분의 운동은 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치를 변화시키는데 효과적이고, 제 1 부분과 제 2...
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| description | 침지 유체를 리소그래피 장치의 일부 영역에 국한시키도록 구성된 유체 처리 구조물(12)은, 침지 액체를 통해 투영 비임이 통과하도록 형성된 구멍(15); 제 1 부분(100); 및 제 2 부분(200)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 적어도 하나는 영역으로부터 침지 유체를 빼내기 위한 표면(20)을 형성하고, 유체 처리 구조물은 유체 처리 구조물의 표면에 출입하는 유체 유동을 제공하고, 제 2 부분에 대한 제 1 부분의 운동은 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치를 변화시키는데 효과적이고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 하나는 유체 유동이 통과하는 적어도 하나의 관통공(51, 61)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 다른 하나는 유체 유동이 통과하는 적어도 하나의 개구(55, 65)를 포함하며, 적어도 하나의 관통공 및 적어도 하나의 개구는 서로 정렬되면 유체 연통하고, 운동에 의해 적어도 하나의 개구가 적어도 하나의 관통공 중의 하나와 정렬되어, 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치가 변하게 된다.
A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the structure having: an aperture for the passage therethrough of a beam; a first part; and a second part, wherein the first and/or second part define a surface for the extraction of immersion fluid, relative movement between the first and second parts is effective to change a position of fluid flow into or out of the surface relative to the aperture, and the first or second part has at least one through-hole for the fluid flow and the other of the first or second part has at least one opening for the fluid flow, the at least one through-hole and at least one opening being in fluid communication when aligned, the relative movement allowing alignment of the at least one opening with different ones of the through-hole to change the position of the fluid flow into or out of the surface. |
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A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the structure having: an aperture for the passage therethrough of a beam; a first part; and a second part, wherein the first and/or second part define a surface for the extraction of immersion fluid, relative movement between the first and second parts is effective to change a position of fluid flow into or out of the surface relative to the aperture, and the first or second part has at least one through-hole for the fluid flow and the other of the first or second part has at least one opening for the fluid flow, the at least one through-hole and at least one opening being in fluid communication when aligned, the relative movement allowing alignment of the at least one opening with different ones of the through-hole to change the position of the fluid flow into or out of the surface.</description><language>eng ; kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210126&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210009445A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210126&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210009445A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>TEUNISSEN MARCEL MARIA CORNELIUS FRANCISCUS</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN VLIET EVERT</creatorcontrib><creatorcontrib>KEUKENS FLOOR LODEWIJK</creatorcontrib><creatorcontrib>TEN KATE NICOLAAS</creatorcontrib><creatorcontrib>ROPS CORNELIUS MARIA</creatorcontrib><creatorcontrib>CUYPERS KOEN</creatorcontrib><creatorcontrib>TANASA GHEORGHE</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN DEN EIJNDEN PEPIJN</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN ERVE JANTIEN LAURA</creatorcontrib><creatorcontrib>FRENCKEN MARK JOHANNES HERMANUS</creatorcontrib><creatorcontrib>GATTOBIGIO GIOVANNI LUCA</creatorcontrib><creatorcontrib>POLET THEODORUS WILHELMUS</creatorcontrib><creatorcontrib>BUDDENBERG HAROLD SEBASTIAAN</creatorcontrib><creatorcontrib>CORTIE ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA</creatorcontrib><title>FLUID HANDLING STRUCTURE FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS</title><description>침지 유체를 리소그래피 장치의 일부 영역에 국한시키도록 구성된 유체 처리 구조물(12)은, 침지 액체를 통해 투영 비임이 통과하도록 형성된 구멍(15); 제 1 부분(100); 및 제 2 부분(200)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 적어도 하나는 영역으로부터 침지 유체를 빼내기 위한 표면(20)을 형성하고, 유체 처리 구조물은 유체 처리 구조물의 표면에 출입하는 유체 유동을 제공하고, 제 2 부분에 대한 제 1 부분의 운동은 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치를 변화시키는데 효과적이고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 하나는 유체 유동이 통과하는 적어도 하나의 관통공(51, 61)을 포함하고, 제 1 부분과 제 2 부분 중의 다른 하나는 유체 유동이 통과하는 적어도 하나의 개구(55, 65)를 포함하며, 적어도 하나의 관통공 및 적어도 하나의 개구는 서로 정렬되면 유체 연통하고, 운동에 의해 적어도 하나의 개구가 적어도 하나의 관통공 중의 하나와 정렬되어, 구멍에 대한 표면에 출입하는 유체 유동의 위치가 변하게 된다.
A fluid handling structure for a lithographic apparatus, the structure having: an aperture for the passage therethrough of a beam; a first part; and a second part, wherein the first and/or second part define a surface for the extraction of immersion fluid, relative movement between the first and second parts is effective to change a position of fluid flow into or out of the surface relative to the aperture, and the first or second part has at least one through-hole for the fluid flow and the other of the first or second part has at least one opening for the fluid flow, the at least one through-hole and at least one opening being in fluid communication when aligned, the relative movement allowing alignment of the at least one opening with different ones of the through-hole to change the position of the fluid flow into or out of the surface.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDB28wn1dFHwcPRz8fH0c1cIDgkKdQ4JDXJVcPMPUvDxDPHwdw9yDPDwdFZwDAhwDHIMCQ3mYWBNS8wpTuWF0twMym6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXx3kFGBkaGBgYGliYmpo7GxKkCAFREKCw</recordid><startdate>20210126</startdate><enddate>20210126</enddate><creator>TEUNISSEN MARCEL MARIA CORNELIUS FRANCISCUS</creator><creator>VAN VLIET EVERT</creator><creator>KEUKENS FLOOR LODEWIJK</creator><creator>TEN KATE NICOLAAS</creator><creator>ROPS CORNELIUS MARIA</creator><creator>CUYPERS KOEN</creator><creator>TANASA GHEORGHE</creator><creator>VAN DEN EIJNDEN PEPIJN</creator><creator>VAN ERVE JANTIEN LAURA</creator><creator>FRENCKEN MARK JOHANNES HERMANUS</creator><creator>GATTOBIGIO GIOVANNI LUCA</creator><creator>POLET THEODORUS WILHELMUS</creator><creator>BUDDENBERG HAROLD SEBASTIAAN</creator><creator>CORTIE ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20210126</creationdate><title>FLUID HANDLING STRUCTURE FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS</title><author>TEUNISSEN MARCEL MARIA CORNELIUS FRANCISCUS ; 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