냉각된 대면 플레이트를 갖는 샤워헤드를 갖는 기판 프로세싱 챔버

기판 프로세싱 챔버를 위한 샤워헤드는: 내측 벽들; 내측 벽들 사이의 내측 플레넘; 제 1 표면 및 제 1 표면에 대향하는 제 2 표면을 갖는 대면 플레이트; 제 1 표면으로부터 제 2 표면으로 연장하는 대면 플레이트를 관통하는 홀들; 내측 플레넘에 유체로 연결된 제 1 유입구; 외측 벽들; 내측 벽들과 외측 벽들 사이의 제 1 외측 플레넘; 내측 벽들과 외측 벽들 사이의 제 2 외측 플레넘; 및 냉각제 채널들을 포함하고; 냉각제 채널들은, 제 1 외측 플레넘과 제 2 외측 플레넘을 유체로 연결하는 제 1 표면과 제 2 표면 사이의...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SHANKAR NAGRAJ, SHANBHAG DAMODAR RAJARAM
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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