냉각된 대면 플레이트를 갖는 샤워헤드를 갖는 기판 프로세싱 챔버

기판 프로세싱 챔버를 위한 샤워헤드는: 내측 벽들; 내측 벽들 사이의 내측 플레넘; 제 1 표면 및 제 1 표면에 대향하는 제 2 표면을 갖는 대면 플레이트; 제 1 표면으로부터 제 2 표면으로 연장하는 대면 플레이트를 관통하는 홀들; 내측 플레넘에 유체로 연결된 제 1 유입구; 외측 벽들; 내측 벽들과 외측 벽들 사이의 제 1 외측 플레넘; 내측 벽들과 외측 벽들 사이의 제 2 외측 플레넘; 및 냉각제 채널들을 포함하고; 냉각제 채널들은, 제 1 외측 플레넘과 제 2 외측 플레넘을 유체로 연결하는 제 1 표면과 제 2 표면 사이의 대면 플레이트 내에 위치되고; 그리고 홀들로부터 유체적으로 격리된다. 샤워헤드는 또한 제 1 외측 플레넘에 유체로 연결된 제 2 유입구를 포함한다. A showerhead for a substrate processing chamber includes: inner walls; an inner plenum between the inner walls; and a faceplate having a first surface and a second surface that is opposite the first surface. Holes through the faceplate extend from the first surface to the second surface. A first inlet is fluidly connected to the inner plenum. A first outer plenum is between the inner walls and outer walls. A second outer plenum is between the inner walls and the outer walls. Coolant: fluidly connect the first outer plenum with the second outer plenum; are located within the faceplate between the first and second surfaces; and are fluidly isolated from the holes. The showerhead also includes a second inlet that is fluidly connected to the first outer plenum.