방사선 빔을 위한 반사 광학 요소

시스템은 방사선 빔을 반사하도록 구성된 반사 표면을 갖는 반사 광학 요소를 포함한다. 반사 광학 요소는 또한 본체를 갖는다. 시스템은 제어기의 제어 하에 본체의 변형을 열적으로 유도하도록 작동 가능한 열 조절 기구를 포함한다. 본체를 제어 가능하게 변형함으로써, 반사 표면의 형상은 제어된 방식으로 조정될 수 있다. A system comprises a reflective optical element with a reflective surface that is configured to reflect a radiation beam. T...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DENEUVILLE FRANCOIS CHARLES DOMINIQUE, RUIJS PETRUS ADRIANUS THEODORUS MARIA, SWINKELS GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA, HOFSTRA RAMON MARK, TYCHKOV ANDREY SERGEEVICH
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	시스템은 방사선 빔을 반사하도록 구성된 반사 표면을 갖는 반사 광학 요소를 포함한다. 반사 광학 요소는 또한 본체를 갖는다. 시스템은 제어기의 제어 하에 본체의 변형을 열적으로 유도하도록 작동 가능한 열 조절 기구를 포함한다. 본체를 제어 가능하게 변형함으로써, 반사 표면의 형상은 제어된 방식으로 조정될 수 있다. A system comprises a reflective optical element with a reflective surface that is configured to reflect a radiation beam. The reflective optical element also has a body. The system includes a thermal conditioning mechanism operative to thermally induce a deformation of the body under control of a controller. By means of controllably deforming the body, the shape of the reflective surface can be adjusted in a controlled manner.