Thickness measuring apparatus for a deposition equipment

본 발명은 한 파장의 광만 제공하더라도 증착 공정 중 실시간으로 증착막의 두께를 신속하고 정확하게 측정할 수 있는 증착 장비용 박막 두께 측정장치에 관한 것이다. 본 발명은 증착 기판이 진공 챔버에 투입되고, 상기 진공 챔버 내부에서 증발원이 증착 물질을 증발시키면, 상기 증착 기판에 증착막이 형성됨에 따라 상기 증착막의 두께를 실시간 측정하는 증착 장비용 박막 두께 측정장치에 있어서, 상기 진공 챔버의 일면에 구비되는 뷰포트; 상기 증발원을 기준으로 상기 증착 기판과 동일한 높이에 위치되고, 상기 증착 물질이 증발됨에 따라 일면에...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	YONGHWAN LEE, YOUNGSHIN PARK, KICHUL SONG, SANGKYU LEE
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS METALLURGY PHYSICS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 한 파장의 광만 제공하더라도 증착 공정 중 실시간으로 증착막의 두께를 신속하고 정확하게 측정할 수 있는 증착 장비용 박막 두께 측정장치에 관한 것이다. 본 발명은 증착 기판이 진공 챔버에 투입되고, 상기 진공 챔버 내부에서 증발원이 증착 물질을 증발시키면, 상기 증착 기판에 증착막이 형성됨에 따라 상기 증착막의 두께를 실시간 측정하는 증착 장비용 박막 두께 측정장치에 있어서, 상기 진공 챔버의 일면에 구비되는 뷰포트; 상기 증발원을 기준으로 상기 증착 기판과 동일한 높이에 위치되고, 상기 증착 물질이 증발됨에 따라 일면에 증착막이 형성되는 측정용 기판을 지그할 수 있는 홀더; 상기 측정용 기판의 일면이 상기 뷰포트와 상기 증착원 중 하나를 향하도록 상기 홀더를 이동시키는 홀더 이동수단; 상기 뷰포트 외부에 위치되고, 특정 파장의 광을 상기 측정용 기판의 일면으로 입사 및 반사시키는 광센서; 및 상기 광센서에서 상기 두께 측정용 기판의 일면으로 입사 및 반사된 광의 편광 변화를 통하여 상기 측정용 기판의 증착막 두께를 산출하는 제어부;를 포함하는 증착 장비용 박막 두께 측정장치를 제공할 수 있다.