SUBSTRATE SUPPORTING UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING THE SAME

본 발명은 기판 지지 유닛에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 지지 유닛은 베이스면과 측벽들에 의해 확정된 내부 공간을 갖는 척 스테이지; 상기 내부 공간에 제공되는 가열 유닛; 및 상기 내부 공간을 커버하는 그리고 상면에 기판이 안착되는 석영 윈도우를 포함하되; 상기 가열 유닛은 중앙에 개구부를 갖는 원판 형상으로 형성되는 베이스 플레이트; 및 상기 베이스 플레이트 상에 설치되고, 빛 에너지를 방출하는 가열 광원들을 갖는 발열부를 포함하며, 상기 척 스테이지의 측방향으로 손실되는 빛 에너지가 기판을 향하도록 반사시...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LEE YOUNGIL, OH SEUNG HOON, PARK GUI SU, CHOI JUNGBONG, CHOI YE JIN, BANG BYUNGSUN, NA SEUNG EUN
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 기판 지지 유닛에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 지지 유닛은 베이스면과 측벽들에 의해 확정된 내부 공간을 갖는 척 스테이지; 상기 내부 공간에 제공되는 가열 유닛; 및 상기 내부 공간을 커버하는 그리고 상면에 기판이 안착되는 석영 윈도우를 포함하되; 상기 가열 유닛은 중앙에 개구부를 갖는 원판 형상으로 형성되는 베이스 플레이트; 및 상기 베이스 플레이트 상에 설치되고, 빛 에너지를 방출하는 가열 광원들을 갖는 발열부를 포함하며, 상기 척 스테이지의 측방향으로 손실되는 빛 에너지가 기판을 향하도록 반사시키는 반사 부재를 포함할 수 있다.