포토리소그래피 마스크로부터 입자를 제거하기 위한 방법 및 장치

본 발명은 포토리소그래피 마스크(500)로부터 입자(550, 2750, 3150)를 제거하는 방법(3300)에 관한 것이며, 상기 방법은: (a) 제거될 입자(550, 2750, 3150) 부근에서 마스크(500)에 관하여 이동 가능한 조작기(300, 1300, 2500, 3000, 3100)를 위치시키는 단계(3320); (b) 기상(vapour phase)으로부터의 입자(550, 2750, 3150) 및/또는 조작기(300, 1300, 2500, 3000)에 연결 재료(730, 1730, 2440)를 퇴적하여 조작기(300, 1...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BAUR CHRISTOF, PIEPER HANS HERMANN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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