APPARATUS FOR CURING DROPLET

약액 경화 장치는 사각형 구조를 갖는 기판의 제1 변 내지 제4 변에 도포시킨 약액을 경화시키기 위한 것으로써, 제1 경화부, 제2 경화부, 제3 경화부, 제어부를 포함할 수 있다. 상기 제1 경화부는 상기 기판의 제1 변에 대응하는 길이를 갖도록 구비되고, 상기 제1 변 및 상기 제1 변과 마주하는 제2 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제2 경화부는 상기 제1 변과 수직하는 제3 변에 대응하도록 구비되고, 상기 제3 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제3 경화부는 상기 제3 변과 마주하는 제4 변에 대응...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	CHO CHEON SU
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	약액 경화 장치는 사각형 구조를 갖는 기판의 제1 변 내지 제4 변에 도포시킨 약액을 경화시키기 위한 것으로써, 제1 경화부, 제2 경화부, 제3 경화부, 제어부를 포함할 수 있다. 상기 제1 경화부는 상기 기판의 제1 변에 대응하는 길이를 갖도록 구비되고, 상기 제1 변 및 상기 제1 변과 마주하는 제2 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제2 경화부는 상기 제1 변과 수직하는 제3 변에 대응하도록 구비되고, 상기 제3 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제3 경화부는 상기 제3 변과 마주하는 제4 변에 대응하도록 구비되고, 상기 제4 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제어부는 상기 제1 경화부, 상기 제2 경화부, 및 상기 제3 경화부의 온/오프(on/off)를 제어하도록 구비될 수 있다.