Wafer cleaning apparatus based on light irradiation and wafer cleaning system comprising the same

The technical idea of the present invention provides a wafer cleaning device based on light irradiation capable of effectively cleaning residues on a wafer without damaging a wafer, and a wafer cleaning system including the cleaning device. The wafer cleaning device based on light irradiation comprises: a light irradiation unit irradiating light onto a wafer; a wafer processing unit on which the wafer is disposed and a position of the wafer is adjusted to irradiate light of energy set on the wafer; and a cooling unit cooling the wafer on which light irradiation has been completed. The light irradiation unit, the wafer processing unit, and the cooling unit are sequentially arranged from top in a vertical structure. 본 발명의 기술적 사상은 웨이퍼의 손상 없이 웨이퍼 상의 잔류물을 효과적으로 세정할 수 있는 광 조사 기반 웨이퍼 세정 장치, 및 그 세정 장치를 포함한 웨이퍼 세정 시스템을 제공한다. 그 광 조사 기반 웨이퍼 세정 장치는 광을 웨이퍼로 조사하는 광 조사부; 상기 웨이퍼가 배치되고, 상기 웨이퍼에 설정된 에너지의 광이 조사되도록 상기 웨이퍼의 위치를 조절하는 웨이퍼 처리부; 및 광의 조사가 완료된 상기 웨이퍼를 냉각하는 냉각부;를 포함하고, 상기 광 조사부, 웨이퍼 처리부, 및 냉각부가 수직 구조로 위에서부터 순차적으로 배치된다.