웨이퍼 척 어셈블리

본 개시는 일반적으로 프로세싱 동안 반도체 웨이퍼들을 지지하기 위한 척 기술에 관한 것이다. 일례에서, 웨이퍼 척 어셈블리가 척 허브 및 척 허브 내에 배치된 센터링 허브를 포함한다. 인게이지 디바이스가 적어도 제 1 방향에서 센터링 허브와 척 허브 사이의 상대적인 운동을 방지하거나, 센터링 허브와 척 허브 사이의 상대적인 운동을 허용하기 위해 센터링 허브와 척 허브를 인게이지하도록 각각 인게이지된 위치와 디스인게이지된 위치 사이에서 동작 가능하다. 척 모터가 인게이지 디바이스의 인게이지된 위치 또는 디스인게이지된 위치에 기반하여 웨이퍼 프로세싱 동작 및 웨이퍼 센터링 동작 동안 척 허브 및/또는 센터링 허브를 선택적으로 회전시키기 위해 제공된다. 복수의 척 암들이 척 허브에 마운팅되고, 척 암 각각은 척 허브에 인접한 근위 단부와 척 허브로부터 먼 원위 단부 사이에서 방사상으로 연장한다. 복수의 센터링 캠들 각각은 척 암의 원위 단부에 또는 원위 단부를 향해 마운팅되고, 척 허브에 대한 센터링 허브의 회전 운동에 응답하여 웨이퍼 에지를 인게이지하거나 릴리징하도록 이동 가능하다. Some examples provide a vacuum wafer chuck assembly for supporting a wafer. An example chuck assembly comprises a chuck hub and a centering hub disposed within the chuck hub. Chuck arms are mounted to the chuck hub, with each chuck arm extending radially between a proximal end adjacent the chuck hub, and a distal end remote therefrom. At least one vacuum pad is provided for supporting the wafer during a wafer centering or wafer processing operation. A vacuum sensor detects a presence or absence of a vacuum pressure at the vacuum pad during the wafer centering or processing operation, a detection indicative of a presence or absence of the wafer in the chuck assembly, or a presence of a defective wafer.