DEPOSITION APPARATUS AND METHOD

본 발명은 처리물의 일면에 증착 분위기를 형성할 수 있는 챔버부, 챔버부를 통하여 처리물의 일면에 레이저를 조사할 수 있도록 설치되는 레이저부, 챔버부와 연결되고, 내부에 소스가 충전되며, 챔버부로 기화된 소스를 공급할 수 있는 소스 공급부, 및 내부에 안정제가 수용되고, 소스 공급부에 안정제를 공급할 수 있도록 설치되는 안정제 공급부를 포함하는 증착 장치와, 이를 이용한 증착 방법으로서, 소스의 변질을 방지할 수 있는 증착 장치 및 방법이 제시된다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JEONG KYUNG HUN, PARK JONG SOO, KANG KYUNG MO, SUL BONG HO, DO YOUNG WON
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 처리물의 일면에 증착 분위기를 형성할 수 있는 챔버부, 챔버부를 통하여 처리물의 일면에 레이저를 조사할 수 있도록 설치되는 레이저부, 챔버부와 연결되고, 내부에 소스가 충전되며, 챔버부로 기화된 소스를 공급할 수 있는 소스 공급부, 및 내부에 안정제가 수용되고, 소스 공급부에 안정제를 공급할 수 있도록 설치되는 안정제 공급부를 포함하는 증착 장치와, 이를 이용한 증착 방법으로서, 소스의 변질을 방지할 수 있는 증착 장치 및 방법이 제시된다.