가스 펄싱 기반 공유 전구체 분배 시스템 및 사용 방법들

단일 소스로부터 다수의 처리 챔버들로 균일한 가스 유동들을 제공하기 위한 가스 분배 장치가 설명된다. 복수의 하류 단부들을 갖는 공유 용적의 상류 단부에 조절기가 위치된다. 공유 용적의 각각의 하류 단부들에 유동 제어기가 위치되고, 유동 제어기는 오리피스 및 고속 펄싱 밸브를 포함한다. 가스 분배 장치를 사용하고 유동 제어기들을 교정하는 방법들이 또한 설명된다. Gas distribution apparatus to provide uniform flows of gases from a single source to multiple pr...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BRASHEAR KEVIN, XU MING, LE KENNETH, BALUJA SANJEEV, OKADA ASHLEY M, RICE MICHAEL, JOSEPHSON MARCEL E, FERNANDEZ ALEXANDER, KOSHTI SUSHANT SURESH, AUBUCHON JOSEPH
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	단일 소스로부터 다수의 처리 챔버들로 균일한 가스 유동들을 제공하기 위한 가스 분배 장치가 설명된다. 복수의 하류 단부들을 갖는 공유 용적의 상류 단부에 조절기가 위치된다. 공유 용적의 각각의 하류 단부들에 유동 제어기가 위치되고, 유동 제어기는 오리피스 및 고속 펄싱 밸브를 포함한다. 가스 분배 장치를 사용하고 유동 제어기들을 교정하는 방법들이 또한 설명된다. Gas distribution apparatus to provide uniform flows of gases from a single source to multiple processing chambers are described. A regulator is positioned at an upstream end of a shared volume having a plurality of downstream ends. A flow controller is positioned at each downstream end of the shared volume, the flow controller comprising an orifice and a fast pulsing valve. Methods of using the gas distribution apparatus and calibrating the flow controllers are also described.