광빔의 공간적 변조

시스템은, 수정된 광빔을 생성하기 위해 광빔과 상호 작용하도록 구성된 공간 변조 디바이스 - 수정된 광빔은 수정된 광빔의 전파 방향에 수직인 방향을 따라 불균일한 세기를 갖는 광의 공간 패턴을 포함하고, 광의 공간 패턴은 하나 이상의 광 성분을 포함함 -; 및 플라즈마 상태에 있을 때 EUV 광을 방출하는 타겟 재료를 포함하는 타겟을 타겟 영역에 제공하도록 구성된 타겟 공급 시스템을 포함한다. 타겟 영역은 수정된 광빔 내의 하나 이상의 광 성분 중 적어도 일부가 타겟의 부분과 상호 작용하도록 빔 경로와 중첩된다. A system includes a spatial modulation device configured to interact with a light beam to create a modified light beam, the modified light beam including a spatial pattern of light that has a non-uniform intensity along a direction that is perpendicular to a direction of propagation of the modified light beam, the spatial pattern of light including one or more components of light; and a target supply system configured to provide a target to a target region, the target including target material that, when in a plasma state, emits EUV light. The target region overlaps with the beam path such that at least some of the one or more components of light in the modified beam interact with a portion of the target.