SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

The dilution solution is supplied through a first supply pipe, and the chemical solution is supplied through a second supply pipe. The flow rate of the dilution solution flowing through the first supply pipe is adjusted by an adjustment unit. In a mixing tank, the dilution solution supplied through the first supply pipe and the chemical solution supplied through the second supply pipe are mixed. The concentration of the chemical solution in the mixed solution of the diluted solution and the chemical solution is measured by a concentration meter. A correction amount of the flow rate of the dilution solution is determined by a control unit so that the concentration measured by the concentration becomes a set value, and the determined correction amount is applied to the adjustment unit. Based on the applied correction amount, the flow rate of the dilution solution flowing through the first supply pipe is corrected by the adjustment unit. 제1 공급 배관에 의해 희석용 액이 공급되고, 제2 공급 배관에 의해 약액이 공급된다. 제1 공급 배관을 흐르는 희석용 액의 유량이 조정부에 의해 조정된다. 혼합 탱크에 있어서 제1 공급 배관에 의해 공급된 희석용 액과 제2 공급 배관에 의해 공급된 약액이 혼합된다. 희석용 액과 약액의 혼합액 중의 약액의 농도가 농도계에 의해 계측된다. 농도계에 의해 계측되는 농도가 설정값이 되도록 희석용 액의 유량의 보정량이 제어부에 의해 결정되고, 결정된 보정량이 조정부에 부여된다. 부여된 보정량에 의거하여 제1 공급 배관을 흐르는 희석용 액의 유량이 조정부에 의해 보정된다.