THERMAL PROCESSING APPARATUS

열처리장치가 개시된다. 본 발명의 열처리장치는, 바닥면에 지지가능하게 설치되는 프레임과, 상기 프레임의 상부측에 설치되는 테이블과, 상기 테이블의 내측에 설치되며, 고온애 대한 내화, 단열, 강도, 내식의 성질을 갖는 내화벽돌과, 상기 내화벽돌의 상부측에 구비되는 세라믹 파이버와, 상기 세라믹 파이버 내측에 구비되되, 상기 내화벽돌의 상부에 위치하여 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 가해주는 히팅 플레이트 및 상기 히팅 플레이트의 상부를 덮도록 설치되되, 좌/우 양방향으로 개폐 가능하게 설치되는 도어를 포함하여 구성될 수 있다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	KIM, SEON KUK
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY FREQUENCY-CHANGING INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY NON-LINEAR OPTICS OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS OPTICAL LOGIC ELEMENTS OPTICS PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF
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Beschreibung
Zusammenfassung:	열처리장치가 개시된다. 본 발명의 열처리장치는, 바닥면에 지지가능하게 설치되는 프레임과, 상기 프레임의 상부측에 설치되는 테이블과, 상기 테이블의 내측에 설치되며, 고온애 대한 내화, 단열, 강도, 내식의 성질을 갖는 내화벽돌과, 상기 내화벽돌의 상부측에 구비되는 세라믹 파이버와, 상기 세라믹 파이버 내측에 구비되되, 상기 내화벽돌의 상부에 위치하여 열처리가 필요한 작업 대상에 열을 가해주는 히팅 플레이트 및 상기 히팅 플레이트의 상부를 덮도록 설치되되, 좌/우 양방향으로 개폐 가능하게 설치되는 도어를 포함하여 구성될 수 있다.