ＥＵＶ 광원에서 부스러기를 제어하기 위한 장치 및 방법
타겟 재료 부스러기를 액체 형태로 축적하는 수단을 포함하는 EUV 시스템이 개시되며, 타겟 재료는 광학 기구 상으로 튀는 것이 차단되고, 타겟 재료는 고화될 수 있고, 그런 다음에, 융용되어 콜렉터를 오염시킴이 없이 배출될 수 있는 위치로 전달된다. Disclosed is an EUV system including measures to accumulate target material debris in a liquid form where the target material is blocked from spitting onto opti...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | kor |
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| Zusammenfassung: | 타겟 재료 부스러기를 액체 형태로 축적하는 수단을 포함하는 EUV 시스템이 개시되며, 타겟 재료는 광학 기구 상으로 튀는 것이 차단되고, 타겟 재료는 고화될 수 있고, 그런 다음에, 융용되어 콜렉터를 오염시킴이 없이 배출될 수 있는 위치로 전달된다.
Disclosed is an EUV system including measures to accumulate target material debris in a liquid form where the target material is blocked from spitting onto optics and in which the target material may be caused to solidify and then conveyed to a location where it can be melted and permitted to drain away without contaminating the collector. |
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