하드 마스크(hard mask) 조성물

아민으로 치환된 풀러렌 유도체 및 가교 제제를 갖는, 스핀-온 하드-마스크를 형성하기 위한 조성물이 본원에 개시되고 청구된다. 제형은 반도체 산업에서 사용되는 다른 용매와 드레인(drain) 상용성이다. Disclosed and claimed herein is a composition for forming a spin-on hard-mask, having a fullerene derivative substituted with an amine and a crosslinking agent. The formulation is drain...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JACKSON EDWARD A, BROWN ALAN, LADA THOMAS, DAWSON GUY, ROBINSON ALEX PHILLIP GRAHAM, ROTH JOHN L
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES ASCOMPOUNDING INGREDIENTS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	아민으로 치환된 풀러렌 유도체 및 가교 제제를 갖는, 스핀-온 하드-마스크를 형성하기 위한 조성물이 본원에 개시되고 청구된다. 제형은 반도체 산업에서 사용되는 다른 용매와 드레인(drain) 상용성이다. Disclosed and claimed herein is a composition for forming a spin-on hard-mask, having a fullerene derivative substituted with an amine and a crosslinking agent. The formulation is drain compatible with other solvents used in the semiconductor industry.