ETCHING APPARATUS USING ETCHING CHAMBER

The present invention relates to an etching device using an etching chamber which can improve etching performance. The etching device using an etching chamber comprises: an etchant storage chamber in which an etchant is stored; a connection unit in communication with the etchant storage chamber; an etching chamber interlocked with the etchant storage chamber through the connection unit and etching an object by supplying the etchant; a cradle disposed in the etchant storage chamber and having the object mounted thereon; and an etching performance improving unit provided in the cradle to improve etching performance of the object. 본 발명은 식각챔버를 이용한 식각장치에 관한 것으로, 식각액이 저장되는 식각액 저장챔버와, 식각액 저장챔버와 연통되는 연결부와, 식각액 저장챔버와 연결부를 통해 연동되며, 식각액 공급에 의해 대상체가 식각되는 식각챔버와, 식각챔버의 내부에 배치되며, 대상체가 안착되는 거치대 및, 거치대에 구비되어 대상체의 식각 성능을 향상시키는 식각성능향상부를 구비하는 것을 특징으로 한다.