Plasma scrubber apparatus

다량의 파우더가 포함된 고온의 분해가스를 냉각하는데 물을 사용하지 않는 간접 냉각 방식의 플라즈마 스크러버 장치가 개시된다. 상기 스크러버 장치는, 유해가스를 플라즈마의 고열에 의해 열분해, 이온화하고 연소하여 분해가스를 생성하는 반응유닛; 상기 분해가스를 냉각하면서 상기 분해가스에 포함된 다량의 파우더를 막힘없이 이송하는 파우더 이송유닛; 상기 냉각된 분해가스와 함께 이송된 파우더를 포집하는 파우더 포집유닛; 상기 파우더가 포집된 분해가스를 냉각하는 냉각 트랩; 및 상기 냉각된 분해가스를 최종 냉각하는 최종 냉각 유닛으로 구성된다...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: OH YUN HAG, CHO KWANG DEUK, JEONG EUI SOON, PARK JAE SUNG, JEONG SEONG UN, YUN TAE SANG, KIM HONG JIK
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
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Beschreibung
Zusammenfassung:다량의 파우더가 포함된 고온의 분해가스를 냉각하는데 물을 사용하지 않는 간접 냉각 방식의 플라즈마 스크러버 장치가 개시된다. 상기 스크러버 장치는, 유해가스를 플라즈마의 고열에 의해 열분해, 이온화하고 연소하여 분해가스를 생성하는 반응유닛; 상기 분해가스를 냉각하면서 상기 분해가스에 포함된 다량의 파우더를 막힘없이 이송하는 파우더 이송유닛; 상기 냉각된 분해가스와 함께 이송된 파우더를 포집하는 파우더 포집유닛; 상기 파우더가 포집된 분해가스를 냉각하는 냉각 트랩; 및 상기 냉각된 분해가스를 최종 냉각하는 최종 냉각 유닛으로 구성된다. The invention discloses a plasma washing device, which cools high temperature decomposition gas that contains a large amount of powder in an indirect cooling mode without using water. The plasma washing device comprises a reaction unit, which decomposes harmful gas by the heat of plasma, and ionizes and burns harmful gas to generate decomposition gas; a powder transfer unit, which cools the decomposition gas and delivers the massive powder in the decomposition gas in a clogging-free mode; a powder collecting unit, which collects the powder along with the cooled decomposition gas; a cooling well, which cools the decomposition gas after the powder is collected; and a final cooling unit, which finally cools the cooled decomposition gas.