COMPOUND AND HARDMASK COMPOSITION HARDMASK LAYER AND METHOD OF FORMING PATTERNS

COMPOUND AND HARDMASK COMPOSITION HARDMASK LAYER AND METHOD OF FORMING PATTERNS

하기 화학식 1로 표현되는 화합물, 상기 화합물을 포함하는 하드마스크 조성물, 상기 하드마스크 조성물의 경화물을 포함하는 하드마스크 층 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법에 관한 것이다. [화학식 1] JPEGpat00054.jpg5950 상기 화학식 1에서, A 내지 E의 정의는 명세서에 기재된 바와 같다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	YOO YONGSIK, YANG SUNYOUNG, PARK YUSHIN, KWON HYO YOUNG, LIM SANGHAK
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC CHEMISTRY ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	하기 화학식 1로 표현되는 화합물, 상기 화합물을 포함하는 하드마스크 조성물, 상기 하드마스크 조성물의 경화물을 포함하는 하드마스크 층 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법에 관한 것이다. [화학식 1] JPEGpat00054.jpg5950 상기 화학식 1에서, A 내지 E의 정의는 명세서에 기재된 바와 같다.