처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 프로그램

제해 장치에 부착된 부생성물을 적절한 타이밍으로 제거하여 장치 가동율을 향상시킬 수 있다. 처리로 내에 구성되는 처리실; 및 복수의 제해 장치와 접속되고 상기 처리실로부터 가스를 배기하는 배기계; 및 처리실에 반입되는 기판에 막을 형성하는 프로세스 레시피를 실행하는 제어부를 적어도 구비하고, 상기 제어부는 프로세스 레시피의 시작 또는 종료 시에 가동 중의 제해 장치 외의 다른 제해 장치의 가동 상태를 확인하도록 구성되고, 다른 제해 장치의 가동 상태가 보수 중이 아니라면, 다른 제해 장치를 가동시키는 것과 함께 가동 중의 제해 장치의 가동 상태를 보수 중으로 절체하고, 다른 제해 장치의 가동 상태가 보수중이라면, 가동 중의 제해 장치를 그대로 계속해서 사용하도록 제어한다. Described herein is a technique capable of improving an operation rate of an apparatus using a plurality of detoxification apparatuses by removing by-products adhered thereto. According to one aspect of the technique, a processing apparatus includes a controller configured to perform a process recipe of forming a film on a substrate, The controller performs: (a) when an operation state of the first detoxification apparatus is an operation-in-progress state, checking an operation state of the second detoxification apparatus; (b) when the operation state of the second detoxification apparatus is not a maintenance-in-progress state, starting an operation of the second detoxification apparatus and switching the operation state of the first detoxification apparatus to the maintenance-in-progress state; and (c) when the operation state of the second detoxification apparatus is the maintenance-in-progress state, continuing an operation of the first detoxification apparatus.