유리 기판 및 그 제조 방법

본 발명은, 열수축률이 작아서, 고정밀 디스플레이 기판으로서 적합하며, 박리 대전을 일으키기 어려운 유리 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. 본 발명의 유리 기판은, 질량백분율로, SiO　50∼70％, AlO　10∼25％, BO　0％ 이상 3％ 미만, MgO　0∼10％, CaO　0∼15％, SrO　0∼10％, BaO　0∼15％, NaO　0.005∼0.3％를 함유하며, β-OH치가 0.18/㎜ 미만, 왜곡점이 735℃ 이상인 것을 특징으로 한다. The present invention addresses the...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	UMEMURA HIROMICHI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS CHEMISTRY GLASS JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES METALLURGY MINERAL OR SLAG WOOL SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS SURFACE TREATMENT OF GLASS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은, 열수축률이 작아서, 고정밀 디스플레이 기판으로서 적합하며, 박리 대전을 일으키기 어려운 유리 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. 본 발명의 유리 기판은, 질량백분율로, SiO　50∼70％, AlO　10∼25％, BO　0％ 이상 3％ 미만, MgO　0∼10％, CaO　0∼15％, SrO　0∼10％, BaO　0∼15％, NaO　0.005∼0.3％를 함유하며, β-OH치가 0.18/㎜ 미만, 왜곡점이 735℃ 이상인 것을 특징으로 한다. The present invention addresses the technical problem of providing: a glass substrate which, because of having a small heat shrinkage rate, is suitable for a high-definition display substrate and which is unlikely to induce charge detachment; and a method for manufacturing such a glass substrate. The glass substrate according to the present invention is characterized by comprising, by mass percentage, 50-70% of SiO2, 10-25% of Al2O3, at least 0% but less than 3% of B2O3, 0-10% of MgO, 0-15% of CaO, 0-10% of SrO, 0-15% of BaO, and 0.005-0.3% of Na2O, and having a β-OH value of less than 0.18/mm and a strain point of at least 735°C.