INTEGRATED DEVICE FOR SURFACE PROCESSING AND INGREDIENT ANALYSIS

본 발명은 표면 가공 및 성분 분석 장치에 관한 것으로 보다 상세하게는, 표면 가공 및 성분 분석을 하나의 장치로 수행할 있는 통합 장치에 관한 것이다. 본 발명은 시료를 이동시키지 않고 표면 가공 및 성분을 분석 다이렉트로 할 수 있는 통합 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 FIB, SEM, PMT 및 EDS를 일체형으로 형성하는 것에 의해 시료를 이동시키지 않고 표면 가공 및 성분 분석을 수행할 수 있으며, 이에 따라, 시료를 이동시키는 과정에서 발생되는 시료의 오염을 방지하는 효과를 가질 수 있다. 또한, 본 발...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	YUNE MYUNG SEOP, PARK JONG YOON, SONG SOO JOON
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING PHYSICS TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 표면 가공 및 성분 분석 장치에 관한 것으로 보다 상세하게는, 표면 가공 및 성분 분석을 하나의 장치로 수행할 있는 통합 장치에 관한 것이다. 본 발명은 시료를 이동시키지 않고 표면 가공 및 성분을 분석 다이렉트로 할 수 있는 통합 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 FIB, SEM, PMT 및 EDS를 일체형으로 형성하는 것에 의해 시료를 이동시키지 않고 표면 가공 및 성분 분석을 수행할 수 있으며, 이에 따라, 시료를 이동시키는 과정에서 발생되는 시료의 오염을 방지하는 효과를 가질 수 있다. 또한, 본 발명은 FIB, SEM, PMT 및 EDS를 일체형으로 형성하는 것에 의해 챔버 내부의 진공을 유지할 수 있어 시료를 이동시키는 과정에서 발생되는 추가적인 진공 구현 공정을 생략하여 작업에 소모되는 시간 및 비용을 감소시키는 효과를 가질 수 있다.