플라즈마 프로세스 부산물 재료들을 관리하기 위한 컴포넌트들 및 프로세스들

기판 상의 다양한 플라즈마-기반 프로세스들의 수행 동안 플라즈마 프로세싱 챔버의 플라즈마 프로세싱 영역 내에 생성되는 비휘발성 및/또는 저휘발성 부산물 재료들을 관리하기 위한 컴포넌트들 및 프로세스들이 본 명세서에 개시된다. 컴포넌트들은 상단 윈도우 구조체, 라이너 구조체, 에지 링 구조체, 포커스 링 구조체, 접지 링 구조체, 기판 액세스 포트 쉴드, 챔버 벽의 포트 개구부에 대한 인서트 라이너, 및 챔버에 연결된 배기 채널 내에 위치시키기 위한 배기 배플 어셈블리를 포함한다. 다양한 컴포넌트들의 하나 이상의 프로세스-노출된 표면...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	PENG GORDON WEN YIN, PANDHUMSOPORN TAMARAK, CHHATRE AMBARISH (RISH), CHAZARO IGNACIO (NACHO), MAROHI DAN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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