Cyclical deposition of germanium

일부 태양들에서, 사이클 퇴적 공정을 사용한 저머늄 박막의 형성 방법들이 제공된다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 저머늄 박막은 반응 챔버 내에서 기판 상에 형성되고, 상기 공정은 상기 기판을 기상 저머늄 전구체 및 질소 반응물과 교대로, 및 순차적으로 접촉시키는 단계의 하나 또는 그 이상의 퇴적 사이클들을 포함한다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 공정은 요구되는 두께의 저머늄 박막이 형성되었을 때까지 반복된다. In some aspects, methods for forming a germanium thin film using a...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	MATERO RAIJA H
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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