Cyclical deposition of germanium

일부 태양들에서, 사이클 퇴적 공정을 사용한 저머늄 박막의 형성 방법들이 제공된다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 저머늄 박막은 반응 챔버 내에서 기판 상에 형성되고, 상기 공정은 상기 기판을 기상 저머늄 전구체 및 질소 반응물과 교대로, 및 순차적으로 접촉시키는 단계의 하나 또는 그 이상의 퇴적 사이클들을 포함한다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 공정은 요구되는 두께의 저머늄 박막이 형성되었을 때까지 반복된다. In some aspects, methods for forming a germanium thin film using a cyclical deposition process are provided. In some embodiments, the germanium thin film is formed on a substrate in a reaction chamber, and the process includes one or more deposition cycles of alternately and sequentially contacting the substrate with a vapor phase germanium precursor and a nitrogen reactant. In some embodiments, the process is repeated until a germanium thin film of desired thickness has been formed.