MACHINING APPARATUS
An objective is to quickly discharge twin fluids, which are used to clean a workpiece, to the outside of a processing chamber. To achieve the objective, when an upper surface (Wa) of a workpiece (W) is cleaned by spraying twin fluids (M) from a nozzle (72), which is inclined from a vertical directio...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | An objective is to quickly discharge twin fluids, which are used to clean a workpiece, to the outside of a processing chamber. To achieve the objective, when an upper surface (Wa) of a workpiece (W) is cleaned by spraying twin fluids (M) from a nozzle (72), which is inclined from a vertical direction with respect to a holding surface (50a), towards the upper surface (Wa) of the workpiece (W) held by a chuck table (5), the twin fluids (M) heading towards a dividing plate (161) after being reflected from the upper surface (Wa) of the workpiece (W) are received on a top plate (700) or side plate (701) of a gas-liquid separation means (70), placed and formed between the chuck table (5) and the dividing plate (161), and discharged to an outlet (162) placed and formed in a bottom part of a processing chamber (16). Therefore, as the fluids are prevented from being sprayed and spread in the internal space of the processing chamber (16), time for the discharge of the twin fluids (M) can be reduced.
(과제) 피가공물의 세정시에 사용하는 이류체를 신속하게 가공실의 외부로 배출하는 것. (해결 수단) 유지면 (50a) 에 대하여 수직 방향으로부터 비스듬하게 기울어진 노즐 (72) 로부터 척 테이블 (5) 에서 유지한 피가공물 (W) 의 상면 (Wa) 을 향해 이류체 (M) 를 분사시켜 피가공물 (W) 의 상면 (Wa) 을 세정할 때, 피가공물 (W) 의 상면 (Wa) 에서 반사되어 구획판 (161) 의 방향을 향한 이류체 (M) 를, 척 테이블 (5) 과 구획판 (161) 사이에 배치 형성한 기액 분리 수단 (70) 의 천판 (700) 이나 측판 (701) 에서 받아내어 가공실 (16) 의 바닥부에 배치 형성된 배출구 (162) 로부터 배출시킴으로써, 가공실 (16) 의 내부의 공간에 분무가 되어 확산되는 것을 방지하여, 이류체 (M) 의 배출에 걸리는 시간을 삭감한다. |
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