METHOD OF CLASSIFYING DEFECTS IN A SEMICONDUCTOR SPECIMEN AND SYSTEM THEREOF
The present invention provides a system, a method and a computer-readable medium for classifying defects. The method comprises: a step of receiving classified first defects, and potential defects, wherein each first defect and potential defect have values for attributes; a step of processing the fir...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention provides a system, a method and a computer-readable medium for classifying defects. The method comprises: a step of receiving classified first defects, and potential defects, wherein each first defect and potential defect have values for attributes; a step of processing the first defects and the potential defects to select a subset of the attributes for differentiating the first defects from the potential defects; a step of obtaining a first function and a second function based on the first defects and the potential defects; a step of obtaining a first threshold for the first function and a second threshold for a combination of the first function and the second function; a step of applying the first function and the second function to each potential defect to obtain a first score and a second score, respectively; a step of determining a combined score of the first score and the second score; and a step of displaying a potential defect as a defect of a potentially new type when the first score is lower than the first threshold or the combined score exceeds the second threshold.
결함들을 분류하기 위한 시스템, 방법 및 컴퓨터 판독 가능 매체로서, 이 방법은: 분류된 제1 결함들, 및 잠재적 결함들을 수신하는 단계 - 각각 제1 결함 및 잠재적 결함은 속성들에 대한 값들을 가짐 -; 제1 결함들을 잠재적 결함들과 구별하는 속성들의 서브세트를 선택하기 위해 제1 결함들 및 잠재적 결함들을 처리하는 단계; 제1 결함들 및 잠재적 결함들에 각각 기초하여 제1 함수 및 제2 함수를 획득하는 단계; 제1 함수에 대한 제1 임계치, 및 제1 함수와 제2 함수의 조합에 대한 제2 임계치를 획득하는 단계; 각각 제1 스코어 및 제2 스코어를 획득하기 위해 각각의 잠재적 결함에 제1 함수 및 제2 함수를 적용하는 단계; 제1 스코어와 제2 스코어의 조합된 스코어를 결정하는 단계; 및 제1 스코어가 제1 임계치보다 더 낮거나 조합된 스코어가 제2 임계치를 초과할 때 잠재적 결함을 잠재적으로 새로운 타입의 결함으로서 표시하는 단계를 포함한다. |
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