CLEANING COMPOSITION FOR PHOTORESIST MIXTURE

The present invention relates to a photoresist mixture cleaner composition comprising a compound represented by chemical formula 1 and a compound represented by chemical formula 2. In particular, the photoresist mixture cleaner composition can effectively eliminate photoresist mixtures precipitated inside drainpipes, without causing corrosion therein, even when used in a less amount than that of the photoresist mixtures, and retains excellent cleaning strength even after a long time. In chemical formula 1, R_1 to R_3 are each independently hydrogen, a hydroxy group, a C1-C3 alkyl group, or a C1-C3 alkoxy alkyl group; and R_4 is a C1-C4 linear or branched alkyl group. In chemical formula 2, R_5 is a C1-C4 alkyl group. 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함함으로써, 배수구 내 배관에 부식이 발생하지 않으면서, 상기 배수구 내에 재침전된 포토레지스트 혼합물을 보다 적은양의 세정액 조성물을 이용하여 효과적으로 제거할 수 있고, 오랜 시간이 흘러도 우수한 세정력이 유지되는 포토레지스트 혼합물 세정액 조성물에 관한 것이다. [화학식 1](상기 화학식 1에서, R내지 R은 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, C1 내지 C3의 알킬기 또는 C1 내지 C3의 알콕시알킬기이고, R는 C1 내지 C4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다). [화학식 2](상기 화학식 2에서, R는 C1 내지 C4의 알킬기이다).