Apparatus and Method for treating substrate

The present invention relates to a substrate processing device capable of preventing idle time from occurring between a cleaning process and a rinsing process. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing device comprises: a cup having a processing space with an open top; a support unit having a support plate for supporting a substrate in the processing space; a first nozzle supplying a processing liquid to the substrate supported by the support plate; and a second nozzle supplying the processing liquid to the substrate supported by the support plate, wherein the second nozzle can be provided so that the processing liquid discharged from the first nozzle is discharged to the same discharge point as the discharge point where the processing liquid is in contact with the substrate. 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 상부가 개방된 처리 공간을 가지는 컵; 상기 처리 공간 내에서 기판을 지지하는 지지판을 가지는 지지유닛; 상기 지지판에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 제1노즐; 및 상기 지지판에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 제2노즐을 포함하되; 상기 제2노즐은 상기 제1노즐로부터 토출되는 처리액이 기판에 맞닿는 토출지점과 동일한 지점으로 처리액이 토출되도록 제공될 수 있다.