SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Provided are a substrate processing method for stable substrate processing and a substrate processing device. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing method comprises: a generation process of generating recipe information in substrate processing and control value information of a control target in substrate processing as one record for each piece of recipe information; a memory process for memorizing records; an acquisition process of acquiring recipe information when performing substrate processing; a reading process of reading a record in which recipe information identical to the acquired recipe information is stored; and a control process of controlling the control target based on the control value information in the recipe information of the read record. [과제] 기판 처리를 안정적으로 계속하는 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치를 제공한다. [해결수단] 실시형태에 따른 기판 처리 방법은, 기판 처리에 있어서의 레시피 정보와 기판 처리에 있어서의 제어 대상의 제어치 정보를 레시피 정보마다 하나의 레코드로서 생성하는 생성 공정과, 레코드를 기억하는 기억 공정과, 기판 처리를 행할 때에 레시피 정보를 취득하는 취득 공정과, 취득된 레시피 정보와 동일한 레시피 정보가 기억된 레코드를 판독하는 판독 공정과, 판독된 레코드의 레시피 정보에 있어서의 제어치 정보에 기초하여 제어 대상을 제어하는 제어 공정을 갖는다.