기판 정렬 방법 및 장치, 및 마스크 얼라이너

기판 사전 정렬 방법 및 장치 및 포토 리소그래피 도구가 개시된다. 기판 사전 정렬 방법은: 기준 기판을 선택하는 단계; 기준 기판의 이미지를 획득하는 단계; 사전 정렬될 기판(1)의 이미지를 획득하는 단계; 사전 정렬될 기판(1)의 이미지를 기준 기판의 이미지에 등록하고 사전 정렬될 기판의 등록된 이미지에 대한 오프셋 파라미터를 획득하는 단계; 및 오프셋 파라미터에 기초하여 사전 정렬될 기판(1)을 각도적으로 조정하고, 기판 사전 정렬 프로세스를 종료하는 단계를 포함한다. 기판 사전 정렬 장치는 포지셔닝 장치, 이미지 획득 및 분석 장치 및 제어 장치를 포함하고, 포토 리소그래피 도구는 이러한 기판 사전 정렬 장치를 포함한다. 상기 방법 및 장치는 특정 마크를 형성할 필요 없이 기판의 사전 정렬을 가능하게 하여, 보다 높은 융통성을 달성하고 생산성 증가를 돕는다. Disclosed are a substrate alignment method and device, and a mask aligner. The substrate alignment method comprises: selecting a reference substrate, and obtaining an image of the reference substrate; selecting an image of the a to-be-aligned substrate (1); performing registration on the image of the to-be-aligned substrate (1) and the image of the reference substrate, so as to obtain an offset parameter of the image of the to-be-aligned substrate on which registration has been completed; and adjusting the angle of the to-be-aligned substrate (1) according to the offset parameter, so as to complete the substrate alignment. The substrate alignment device comprises a positioning device, an image collection and analysis device, and a control device. The mask aligner comprises the substrate alignment device. By using the alignment method and device, pre-alignment operations can be performed on substrates without making special marks on the substrates, and accordingly, the method and the device have high universality and help to improve the production efficiency. Also disclosed a mask aligner comprising the substrate alignment device.