PEDESTAL WITH MULTI-ZONE TEMPERATURE CONTROL AND MULTIPLE PURGE CAPABILITIES

반도체 프로세싱 장치용 기판 지지 조립체들이 설명된다. 조립체들은 페데스탈 및 페데스탈에 커플링된 스템을 포함할 수 있다. 페데스탈은, 독립적으로 제어되는 온도들을 갖는 다중 영역들을 제공하도록 구성될 수 있다. 각각의 영역은, 스템 내의 내부 채널들로부터 수용되고 그리고 내부 채널들로 전달되는 온도 제어된 유체를 순환시킴으로써, 영역 내에 실질적으로 균일한 온도 제어를 제공하기 위한 유체 채널을 포함할 수 있다. 유체 채널들은 역평행(parallel-reverse) 유체 배열로 구성된 다중 부분들을 포함할 수 있다. 페데스탈은 또한, 페데스탈의 영역들 사이에 열적 격리를 제공하도록 구성될 수 있는 유체 퍼지 채널들을 포함할 수 있다. Substrate support assemblies for a semiconductor processing apparatus are described. The assemblies may include a pedestal and a stem coupled with the pedestal. The pedestal may be configured to provide multiple regions having independently controlled temperatures. Each region may include a fluid channel to provide a substantially uniform temperature control within the region, by circulating a temperature controlled fluid that is received from and delivered to internal channels in the stem. The fluid channels may include multiple portions configured in a parallel-reverse flow arrangement. The pedestal may also include fluid purge channels that may be configured to provide thermal isolation between the regions of the pedestal.