PLASMA REACTOR WHERE GAS IS INJECTED

Disclosed is a plasma reactor that injects gas to insulate between an electrode and a ground. The plasma reactor includes a body that acts as a ground, a dielectric arranged at least partially on the body and an electrode arranged on the dielectric. Here, the interior space of the plasma reactor for...

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Hauptverfasser: KO GYOUNG O, SUH KWANG HA, KIM DAE SEUNG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:Disclosed is a plasma reactor that injects gas to insulate between an electrode and a ground. The plasma reactor includes a body that acts as a ground, a dielectric arranged at least partially on the body and an electrode arranged on the dielectric. Here, the interior space of the plasma reactor formed by at least one of the body and the dielectric is a vacuum atmosphere, and in the vacuum atmosphere, gas is injected into the inner space of the plasma reactor to change a conductive material into an insulating material, to prevent a material from adhering to the inner surface of the plasma reactor, or to clean the inner surface. 가스를 주입하여 전극과 접지 사이를 절연시키는 플라즈마 반응기가 개시된다. 상기 플라즈마 반응기는 접지로서 동작하는 바디, 상기 바디 상에 적어도 일부분 배열된 유전체 및 상기 유전체 위에 배열된 전극을 포함한다. 여기서, 상기 바디와 상기 유전체 중 적어도 하나에 의해 형성되는 상기 플라즈마 반응기의 내부 공간은 진공 분위기이고, 상기 진공 분위기에서 가스가 상기 플라즈마 반응기의 내부 공간으로 주입되어 도전 물질을 절연 물질로 변화시키거나 상기 플라즈마 반응기의 내부 표면에 물질이 부착되는 것을 방지하거나 상기 내부 표면을 세정한다.