광학 도파관 제작에 대한 방법

(a) (i) 에폭시 및 알케닐 기를 포함하는 폴리실록산, 및 (ii) 에폭시 기를 포함하고 1000 이하의 분자량과 적어도 1.47의 굴절률을 갖는 화합물 및 (iii) 광 산 발생제; 및 (iv) 하이드로실릴화 촉매를 포함하는 제1 조성물을 침착하는 단계 (b) 상기 제1 조성물을 자외선에 노출함에 의해 경화하는 단계; (c) 상기 제1 조성물의 미경화된 부분 중 적어도 일부분을 제거하여 최종 패턴화된 코어 층을 생성하는 단계; (d) 상기 최종 패턴화된 코어 층 상에 (i) 에폭시 기 및 알케닐 기를 포함하는 폴리실록산, 및 (ii) 에폭시 기 및 실리콘-수소 결합을 포함하고, 1000 이하의 분자량과 1.45 이하의 굴절률을 갖는 화합물; (iii) 광 산 발생제를 포함하는 제2 조성물을 침착하는 단계 (e) 0.1 내지 120분 동안 20 내지 150℃의 온도에서 가열하는 단계; 및 (f) 자외선에의 노출에 의해 경화하는 단계에 의해 광학 도파관을 생산하는 방법. A method for producing an optical waveguide by: (a) depositing a first composition comprising: (i) a polysiloxane comprising epoxy and alkenyl groups, and (ii) a compound comprising an epoxy group, having molecular weight no greater than 1000 and a refractive index of at least 1.47 and (iii) a photo acid generator; and (iv) a hydrosilation catalyst (b) curing the first composition by exposure to ultraviolet light; (c) removing at least a part of the uncured portion of the first composition to produce a final patterned core layer; (d) depositing on the final patterned core layer a second composition comprising: (i) a polysiloxane comprising epoxy groups and alkenyl groups, and (ii) a compound comprising an epoxy group and a silicon-hydrogen bond, having molecular weight no greater than 1000 and a refractive index no greater than 1.45; (iii) a photo acid generator (e) heating at a temperature from 20 to 150° C. for 0.1 to 120 minutes; and (f) curing by exposure to ultraviolet light.