패터닝 프로세스 파라미터를 결정하는 방법

패터닝 프로세스 파라미터를 결정하는 방법이 개시되며, 상기 방법은: 타겟에 대해, 중심 파장을 포함하는 방사선으로 타겟을 조명함으로써 획득된 데이터로부터 중간 파라미터에 대한 제1 값을 계산하는 단계; 타겟에 대해, 2개의 상이한 중심 파장을 포함하는 방사선으로 타겟을 조명함으로써 획득된 데이터로부터 중간 파라미터에 대한 제2 값을 계산하는 단계; 및, 중간 파라미터에 대한 제1 및 제2 값에 기초하여, 패터닝 프로세스 파라미터에 대한 복합 측정치를 계산하는 단계를 포함한다. A method to determine a patterning process parameter, the method comprising: for a target, calculating a first value for an intermediate parameter from data obtained by illuminating the target with radiation comprising a central wavelength; for the target, calculating a second value for the intermediate parameter from data obtained by illuminating the target with radiation comprising two different central wavelengths; and calculating a combined measurement for the patterning process parameter based on the first and second values for the intermediate parameter.