ALLOY FOR MAKING TRACE WIRES AND TOUCH PANEL USING THE SAME

The present invention relates to a novel alloy including a first sandwich layer, a copper metal layer and a second sandwich layer in combination. After using the alloy for a plurality of first epitaxial electrodes and second epitaxial electrodes (i.e. trace circuit) of a silver-nano touch panel, it is possible to effectively reduce or prevent formation of feather-like microstructures during the etching of a trace electrode and/or (touch controlling) sensing electrode unit. Meanwhile, the alloy can prevent the attack of an etchant solution perfectly, when it is used for forming a patterned silver-nano wire electrode during the manufacture. Thus, after completing the fabrication of a patterned silver-nano wire electrode by using an etching process, it is possible to prevent the first sandwich layer, copper metal layer and the second sandwich layer from being attacked by the etchant solution. Therefore, it is possible to significantly increase yield and reliability of a process for fabricating a touch panel by extending a range of operation in an etching process, when using the novel alloy for a silver-nano wire touch panel of a trance electrode. 본 발명은 제1샌드위치층, 구리금속층, 제2샌드위치층으로 조합된 참신한 합금에 관한 것으로서, 특히 본 발명의 합금을 은나노터치패널의 복수 개의 제1에피택시 전극과 복수 개의 제2에피택시 전극(즉, 추적전극(trace circuit))에 사용한 후, 추적전극과/ 혹은(터치제어) 감지전극유닛의 에칭 과정에서 깃털형상의 미세구조가 생성되는 것을 효과적으로 감소시키거나 방지할 수 있으며, 다른 한 편으로 본 발명의 합금은 제작 과정 중 패턴화된 은나노 와이어 전극 형성에 사용되어 에칭액의 공격을 완전히 방지할 수 있기 때문에 에칭 제작 과정을 이용하여 패턴화된 은나노 와이어 전극 제작을 완료한 후, 제1샌드위치층, 구리금속층, 제2샌드위치층이 에칭액에 의해 공격을 받는 현상을 방지할 수 있으며, 이를 통해 본 발명인 참신한 합금을 추적전극의 은나노 와이어터치패널로 사용하는 상황 하에서 터치패널의 제작 과정 양률과 신뢰도가 에칭 제작 과정의 조작 범위의 확대에 따라 현저하게 상승하는 것을 알 수 있다.