마이크로리소그래피용 광학 시스템

본 발명은 마이크로리소그래피용 광학 시스템에 관한 것으로서, 광학 시스템은 사용된 빔 경로를 따라 광학 시스템을 통과하는 전자기 방사선으로 작동하도록 설계되고, 사용된 빔 경로 외부에 위치된 영역을 갖는 적어도 하나의 구성요소(105)를 갖고, 상기 영역은 촉매 또는 화학적 활성층(110)을 갖고, 촉매 또는 화학적 활성층(110) 및/또는 상기 층(110)을 지지하는 캐리어(230, 240)는 다공성이다. A microlithographic optical system, wherein the optical system is desi...

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1. Verfasser: GROSSMANN JAN
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 마이크로리소그래피용 광학 시스템에 관한 것으로서, 광학 시스템은 사용된 빔 경로를 따라 광학 시스템을 통과하는 전자기 방사선으로 작동하도록 설계되고, 사용된 빔 경로 외부에 위치된 영역을 갖는 적어도 하나의 구성요소(105)를 갖고, 상기 영역은 촉매 또는 화학적 활성층(110)을 갖고, 촉매 또는 화학적 활성층(110) 및/또는 상기 층(110)을 지지하는 캐리어(230, 240)는 다공성이다. A microlithographic optical system, wherein the optical system is designed for operation with electromagnetic radiation that passes through the optical system along a used beam path, and includes at least one component (105) having a region outside the used beam path, wherein this region has a catalytic or chemically active layer (110), and wherein the catalytic or chemically active layer (110) and/or a carrier (230, 240) bearing this layer (110) is porous.