VERTICAL REACTOR FOR WAFER PROCESSING

The present invention provides a vertical reactor for processing a wafer, having an improved insulation structure and an improved fuzzy structure to prevent influence to a boat area. The vertical reactor includes: an inner tube having an exhaust port in an insulation area, wherein an inner space of...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KIM KEE JUN, SEO TAE WOOK, HUR KWAN SUN
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention provides a vertical reactor for processing a wafer, having an improved insulation structure and an improved fuzzy structure to prevent influence to a boat area. The vertical reactor includes: an inner tube having an exhaust port in an insulation area, wherein an inner space of the inner tube is divided into an insulation area of the lower part for insulation and the boat area of the upper part in which a boat for processing a wafer is installed; an insulation core vertically formed at the center on a plane in the insulation area; and an insulation group having multiple insulations vertically separated in the insulation area, wherein the insulation group has a vertical hollow into which the insulation core is inserted. Fuzzy gas flowing into the insulation area passes through an exhaust space in which the multiple insulations are arranged at intervals. Also, the fuzzy gas detours the insulation core and is guided to the exhaust port of the inner tube. 본 발명은 보트 영역에 영향이 없도록 단열 구조 및 퍼지 구조를 개선한 웨이퍼 공정용 수직 리액터를 개시하며, 상기 수직 리액터는 웨이퍼 공정을 위한 보트가 배치되는 상부의 보트 영역과 단열을 위한 하부의 단열 영역으로 내부 공간이 구분되며, 상기 단열 영역에 배기구가 형성된 이너 튜브; 상기 단열 영역 내 평면상 중앙에 수직으로 구성되는 단열 코어; 및 상기 단열 코어가 삽입되는 수직의 중공이 형성되며 상기 단열 영역 내에서 상하로 이격되는 복수의 단열체를 갖는 단열체 그룹;을 포함하며, 상기 단열 영역으로 유입된 퍼지 가스가 상기 복수의 단열체가 이격된 배기 공간을 경유하고 상기 단열 코어를 우회하여 상기 이너 튜브의 상기 배기구로 안내됨을 특징으로 한다.