감광성 수지 조성물, 수지막 및 전자 장치

특정 구조의 실레인 화합물(2급 아민 구조와, 분자의 2개의 말단에 특정의 규소 함유 구조를 구비함)과, 알칼리 가용성 수지와, 감광제를 포함하는 감광성 수지 조성물. 또, 이 감광성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지막. 또, 이 수지막을 구비하는 전자 장치. 알칼리 가용성 수지로서 바람직하게는 폴리아마이드 수지이다. 감광제로서 바람직하게는 다이아조퀴논 화합물이다. Provided is a photosensitive resin composition comprising: a silane compound (provided with...

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Hauptverfasser:	KAWANAMI TAKUJI, IKEDA TAKUJI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	특정 구조의 실레인 화합물(2급 아민 구조와, 분자의 2개의 말단에 특정의 규소 함유 구조를 구비함)과, 알칼리 가용성 수지와, 감광제를 포함하는 감광성 수지 조성물. 또, 이 감광성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지막. 또, 이 수지막을 구비하는 전자 장치. 알칼리 가용성 수지로서 바람직하게는 폴리아마이드 수지이다. 감광제로서 바람직하게는 다이아조퀴논 화합물이다. Provided is a photosensitive resin composition comprising: a silane compound (provided with a secondary amine structure, and a specific silicon-containing structure at two ends of the molecule) having a specific structure; an alkali-soluble resin; and a photosensitizer. Also, provided is a resin film obtained by curing said photosensitive resin composition. Also, provided is an electronic device provided with said resin film. The alkali-soluble resin is preferably a polyamide resin. The photosensitizer is preferably a diazoquinone compound.