플로트 유리 프로세스에 의한 평판 유리의 생산을 위한 개선된 방법 및 설비

용융 금속의 배스(7) 상의 유리 리본(8)의 플로팅에 의해서 평판 유리를 생산하는 동안 얻어지는 유리와 동일한 광학적 품질을 갖는 유리 리본(8)의 구동 속도(V)를 증가시키기 위해서, 유리 리본(8) 아래에 위치되는 용융 금속(7)의 전부 또는 일부에는 장치(10)에 의해서 유리 스트립(8)의 표면에 수직인 정적인 자기장이 가해지고, 그러한 장치는, 유리가 이하의 식: 10Pa.m.s < μ.h< 10Pa.m.s 을 만족시키는 배스의 구역(Z)의 길이의 적어도 일부에서, 용융 금속(7)의 이동을 제동하기 위해서 또는...

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Hauptverfasser: BOUILLET FABIEN, LEBOIS FELIX
Format: Patent
Sprache:kor
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