플로트 유리 프로세스에 의한 평판 유리의 생산을 위한 개선된 방법 및 설비

용융 금속의 배스(7) 상의 유리 리본(8)의 플로팅에 의해서 평판 유리를 생산하는 동안 얻어지는 유리와 동일한 광학적 품질을 갖는 유리 리본(8)의 구동 속도(V)를 증가시키기 위해서, 유리 리본(8) 아래에 위치되는 용융 금속(7)의 전부 또는 일부에는 장치(10)에 의해서 유리 스트립(8)의 표면에 수직인 정적인 자기장이 가해지고, 그러한 장치는, 유리가 이하의 식: 10Pa.m.s < μ.h< 10Pa.m.s 을 만족시키는 배스의 구역(Z)의 길이의 적어도 일부에서, 용융 금속(7)의 이동을 제동하기 위해서 또는 이를 실질적으로 중단시키기 위해서 전자석 및/또는 영구 자석을 갖고, 여기서 - μ: Pa.s로 표현되는 유리 점도, 그리고 - h: 미터로 표현되는, 유리 리본의 두께이다. In order to increase the drive speed (V) of the glass ribbon (8) with the same optical quality as the glass obtained during the production of flat glass by means of floating a glass ribbon (8) on a bath of molten metal (7), all or part of the molten metal (7) located under the glass ribbon (8) is subjected to a static magnetic field perpendicular to the surface of the glass strip (8) by means of a device (10) with electromagnets and/or permanent magnets for braking the movement of the molten metal (7) or substantially stopping it for at least one portion of the length of an area (Z) of the bath for which the glass satisfies the following relationship: 10-3.5 Pa.m3.s