거울 어레이

거울 어레이가 개시되며, 어레이의 거울들 중 적어도 일부는 반사 표면 및 반사 표면 반대편의 표면으로부터 연장되는 아암을 포함하고, 거울 어레이는 복수의 감지 장치들이 제공되는 지지 구조체를 더 포함하며, 감지 장치들은 감지 장치들과 거울들로부터 연장되는 아암들 사이의 갭들을 측정하도록 구성된다. A mirror array, at least some of the mirrors of the array comprising a reflective surface and an arm which extends from a surface opp...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	STEEGHS MARCO MATHEUS LOUIS, GANG TIAN, YOUSEFI MOGHADDAM MEHDI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	거울 어레이가 개시되며, 어레이의 거울들 중 적어도 일부는 반사 표면 및 반사 표면 반대편의 표면으로부터 연장되는 아암을 포함하고, 거울 어레이는 복수의 감지 장치들이 제공되는 지지 구조체를 더 포함하며, 감지 장치들은 감지 장치들과 거울들로부터 연장되는 아암들 사이의 갭들을 측정하도록 구성된다. A mirror array, at least some of the mirrors of the array comprising a reflective surface and an arm which extends from a surface opposite to the reflective surface, wherein the mirror array further comprises a support structure provided with a plurality of sensing apparatuses, the sensing apparatuses being configured to measure gaps between the sensing apparatuses and the arms which extend from the mirrors.