원거리 나노미터 스케일의 초 해상도 전장 광학적 계측을 위한 시스템 및 방법

원거리 나노미터 스케일 상에서 샘플 또는 물체(6)의 표면 지형에 대한 정보를 전달하기 위한 초 해상도 전장 광학적 계측 시스템에 있어서, 광원(2), 마이크로비드(9) 및 미러(10)를 포함하는 기준 암, 상기 마이크로비드(9)와 유사한 마이크로비드(7)를 포함하고 또한 물체(6)의 표면(22) 근방에 바로 배치되는 물체 암을 포함하는 간섭계(1a, 1b, 1c, 1d), 간섭상들을 캡쳐하기 위한 수신 수단(5) 및 상기 표면 지형 정보를 생성하기 위해 상기 간섭상들을 처리하기 위한 수단을 포함한다. 상기 광원(2)은 시간적으로 코히어런트하거나 또는 부분적으로 코히어런트하다. 상기 간섭계 및 상기 간섭상들을 처리하기 위한 수단은 위상 천이 간섭측정에 의해 상기 물체(6)의 표면을 재구축하기 위해 배치된다. A system of super-resolution full-field optical metrology for delivering information on the surface topography of a sample or object (6) on the far-field nanometre scale, comprising a light source (2), an interferometer (1a, 1b, 1c, 1d) comprising a reference arm incorporating a microbead (9) and a mirror (10), an object arm including a microbead (7) similar to said microbead (9) and arranged in immediate proximity to the surface (22) of the object (6), receiving means (5) for capturing the interference figures, and means for processing these interference figures in such a way as to produce surface topography information. The light source (2) is temporally coherent or partially coherent. The interferometer and the means for processing interference figures are designed to reconstruct the surface of the object (6) by phase shifting interferometry.