A FLUID HANDLING STRUCTURE A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD

구역에 침지 유체를 포함하도록 구성되는 리소그래피 장치용 유체 핸들링 구조체가 개시되며, 유체 핸들링 구조체는 공간의 경계에서: 공간의 반경방향 바깥쪽 방향의 적어도 하나의 가스 나이프 개구부; 및 공간에 대해 적어도 하나의 가스 나이프 개구부로부터 반경방향 바깥쪽 방향의 적어도 하나의 가스 공급 개구부를 갖는다. 가스 나이프 개구부 및 가스 공급 개구부는 둘 다 공간에 인접하여, 및 공간의 반경방향 바깥쪽에 실질적으로 순수한 CO가스 환경을 제공하기 위해 실질적으로 순수한 CO가스를 제공한다. A fluid handling str...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ROPS CORNELIUS MARIA, WERNAART WILHELMUS ANTONIUS, VAN DER ZANDEN FREDERIK ANTONIUS, STALS WALTER THEODORUS MATHEUS, GATTOBIGIO GIOVANNI LUCA, BLANCO CARBALLO VICTOR MANUEL, VAN DER HAM RONALD, EUMMELEN ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA, BESSEMS DAVID
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL PHYSICS SEPARATION TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	구역에 침지 유체를 포함하도록 구성되는 리소그래피 장치용 유체 핸들링 구조체가 개시되며, 유체 핸들링 구조체는 공간의 경계에서: 공간의 반경방향 바깥쪽 방향의 적어도 하나의 가스 나이프 개구부; 및 공간에 대해 적어도 하나의 가스 나이프 개구부로부터 반경방향 바깥쪽 방향의 적어도 하나의 가스 공급 개구부를 갖는다. 가스 나이프 개구부 및 가스 공급 개구부는 둘 다 공간에 인접하여, 및 공간의 반경방향 바깥쪽에 실질적으로 순수한 CO가스 환경을 제공하기 위해 실질적으로 순수한 CO가스를 제공한다. A fluid handling structure for a lithographic apparatus configured to contain immersion fluid to a region, the fluid handling structure having, at a boundary of a space: at least one gas knife opening in a radially outward direction of the space; and at least one gas supply opening in the radially outward direction of the at least gas knife opening relative to the space. The gas knife opening and the gas supply opening both provide substantially pure CO2 gas so as to provide a substantially pure CO2 gas environment adjacent to, and radially outward of, the space.