REDUCED PRESSURE DRYING APPARATUS AND REDUCED PRESSURE DRYING METHOD

An objective of the present invention is to provide technology to reduce the generation of nonuniform drying in a processing liquid when drying the processing liquid on a substrate with decompression. According to the present invention, a recessed part (12) is formed on the bottom surface (100) in a...

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1. Verfasser: TOMIFUJI YUKIO
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:An objective of the present invention is to provide technology to reduce the generation of nonuniform drying in a processing liquid when drying the processing liquid on a substrate with decompression. According to the present invention, a recessed part (12) is formed on the bottom surface (100) in a chamber (10) and a discharge hole (14) is formed on the bottom surface (120) of the recessed part (12). A first rectification plate (30) is formed at a position overlapped with the discharge hole (14) in a Z-axis direction (depth direction of the recessed part (12)) within a storage space (10S). A second rectification plate (40) is formed at a position where an end part (-X side end part (32a) or +X side end part (32b)) of the first rectification plate (30) and the inner edge part (-X side edge part (124a) or +X side edge part (124b)) of the recessed part (12) is overlapped with the Z-axis direction (depth direction of the recessed part (12)). A plurality of holding units (52) hold a substrate (9) at a position (upper position (L1) or lower position (L2)) above the first and second rectification plates (30, 40). (과제) 기판 상의 처리액을 감압으로 건조시킬 때에, 처리액에 있어서의 건조 불균일의 발생을 경감시키는 기술을 제공한다. (해결 수단) 챔버 (10) 내의 바닥면 (100) 에 오목부 (12) 가 형성되어 있고, 당해 오목부 (12) 의 바닥면 (120) 에 배기구 (14) 가 형성되어 있다. 수용 공간 (10S) 에 있어서의 Z 축 방향 (오목부 (12) 의 깊이 방향) 에 있어서 배기구 (14) 와 겹치는 위치에 제 1 정류판 (30) 이 형성되어 있다. 제 1 정류판 (30) 의 단부 (-X 측 단부 (32a) 또는 +X 측 단부 (32b)) 및 오목부 (12) 의 내측 가장자리부 (-X 측 가장자리부 (124a) 또는 +X 측 가장자리부 (124b)) 와 Z 축 방향 (오목부 (12) 의 깊이 방향) 에 있어서 겹치는 위치에, 제 2 정류판 (40) 이 형성되어 있다. 복수의 유지부 (52) 는, 제 1 정류판 (30) 및 제 2 정류판 (40) 의 상방의 위치 (상위치 (L1) 또는 하위치 (L2)) 에서 기판 (9) 을 유지한다.