전자선 관찰 장치, 전자선 관찰 시스템 및 전자선 관찰 장치의 제어 방법

전자원과, 상기 전자원으로부터 방출된 전자선을 집속(集束)하는 대물렌즈를 갖고, 상기 전자선을 시료에 조사함으로써 상기 시료에서 발생하는 이차 신호로부터 화상을 생성하는 전자선 관찰 장치로서, 특정한 패턴을 갖는 기준 시료의 화상을 복수회 촬상하여 복수의 화상을 생성하고, 상기 복수의 화상의 각각에 대해서 주파수 특성을 산출하는 제어부를 갖고, 상기 제어부는, 상기 복수의 주파수 특성을 유지한다. Provided is an electron beam observation device that includes: an electron source; an objective lens concentrating an electron beam emitted from the electron source; and a control unit configured to perform control such that a plurality of images is generated by capturing images of a reference sample having a specific pattern, and a frequency characteristic is calculated for each of the plurality of images, in which an image is generated based on a secondary signal generated from a sample due to irradiation of the sample with the electron beam, and the control unit holds the plurality of frequency characteristics.